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GCIB-10S 離子源系統

  • 更新時(shí)間:  2024-05-09
  • 產(chǎn)品型號:  GCIB 10S
  • 簡(jiǎn)單描述
  • GCIB-10S 離子源系統是一種高性能10千伏氣體團簇離子束,用于快速、低損傷濺射和更高質(zhì)量的表面分析。GCIB 10S提供了大量有用的功能,包括實(shí)時(shí)集群大小測量和內置樣本電流成像系統,以幫助您充分利用實(shí)驗。
詳細介紹

簡(jiǎn)介

GCIB-10S 離子源系統是一種高性能10千伏氣體團簇離子束,用于快速、低損傷濺射和更高質(zhì)量的表面分析。

GCIB 10S提供了大量有用的功能,包括實(shí)時(shí)集群大小測量和內置樣本電流成像系統,以幫助您充分利用實(shí)驗。 

GCIB-10S 離子源系統具有完整的泵送系統和單獨軟件,是一種栓接式升級,將集束束濺射的力量引入現有的真空儀器,如XPS、SEM和SIMS。

       

 

主要參數



主要應用                濺射            
光斑尺寸                250 µm                
掃描范圍                7.5 x 7.5 mm                
能耗范圍                1 – 10 kV                
電流范圍                60 nA                
法蘭至機頭長(cháng)度                143 mm               
推薦工作距離                50 mm                
電源裝置                3U x 19’’ rack mountable unit    
電源要求                110-240VAC 13A 50/60Hz                
軟件要求                        PC running Windows 10 or later                   
集成法蘭規格                NW 63 CF                














特點(diǎn):  

◇  10kV氬團簇離子源,可選擇Ar1至>Ar3000的團簇;

◇  實(shí)時(shí)集群測量和調整;

◇  采樣電流成像;

◇  光斑尺寸大,掃描范圍寬,可均勻去除材料;

◇  易于安裝在許多高真空儀器上;

◇  單獨軟件和基于web套接字的API,用于與第三方軟件集成




應用技術(shù): 

GCIB 10S可去除不定碳和其他表面污染,而不會(huì )損壞基材, 同時(shí)還可對有機物和聚合物等軟材料進(jìn)行無(wú)損傷深度剖析。

右圖顯示了分別使用Ar1和Ar2000蝕刻原始PET表面前后的C 1s 峰值。數據清楚地顯示了單原子Ar1束(紅色)造成的化學(xué)損傷,而光譜在暴露于A(yíng)r2000束(藍色)后幾乎保持不變

         

               




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